Experiments

• AG - astrophysics and geophysics
• BK - biophysics and complex systems
• FM - solid state physics and physics of materials
• KT - nuclear physics and particle physics

BK - biophysics and complex systems

• AG.RBK - Rayleigh-Bénard Convection
• BK.ABB - Analysis of Brownian Motion
• BK.CMF - Computational Microfluidics (Digital Lab)
• BK.MDS - Molecular Dynamics Simulations of Proteins
• BK.MIF - Microfluidics
• BK.NLF - Nd:YAG Laser and Second-harmonic generation
• BK.NSE - Nanostructuring by means of Electron Beam Lithography
• BK.OTM - Assembling an optical tweezers microscope
• BK.PKR - Phase Contrast Radiography
• BK.SLM - X-ray reflectivity study of lipid membranes
• BK.STM - STED Microscopy
• BK.TRS - Total Reflection of X-rays and X-ray Reflectivity of Thin Films
• BK.WFS - Wavefront sensor for laser beam and optics characterization

BK.TRS - Total Reflection of X-rays and X-ray Reflectivity of Thin Films

In vielen Bereichen moderner Technologie spielen dünne Schichten eine herausragende Rolle. Ein schnelles, zerstörungsfreies und relativ einfaches Verfahren zur Bestimmung von Schichtdicken, Elektronendichte sowie Ober- bzw. Grenzrauigkeiten von Ein- und Mehrfachschichtstrukturen im Nanometerbereich stellt die Röntgenreflektometrie dar. In diesem Versuch wird zunächst die Oberfläche eines Si-Wafers mittels Röntgenreflektometrie charakterisiert. Dann wird mit der Spin-Coating-Technik eine Polymerschicht aufgebracht und die Schichtdicke sowie die Oberflächenrauigkeit dieser Schicht bestimmt.